（原标题：填补国产空白！皓宇电子12英寸CVD设备实现量产新里程碑）富鑫中证
本月，皓宇电子自主研发的12英寸多腔多工位CVD设备与8英寸多腔多工位CVD设备量产。这一里程碑不仅标志着公司完成了从架构设计、样机验证到系统交付的技术闭环，更实现了国内在该设备架构类别的首次工程化部署，填补了国产细分领域空白。
对标先进技术路线，构建原创技术体系
皓宇电子自2020年起专注于“多腔多Station”CVD设备的自主研发，该架构已成为全球主流厂商布局的下一代CVD技术核心方向。不同于市场上仍普遍采用的“twinchamber”架构，皓宇电子选择了技术门槛更高的“多工艺腔-多Station”模式，以提升沉积路径一致性和厚膜工艺效率，在工艺稳定性、设备兼容性、产线产能提升与成本控制等关键维度，形成显著竞争优势。
区别于传统的“外观对标+参数拼接”策略，皓宇电子自主构建了完整的国产化CVD设备体系，涵盖从结构设计到控制平台的全链路创新：
工艺腔优化——提升膜层均匀性与沉积速率；
气路系统自主设计——实现精准流量与成分控制；
温控系统增强——保障沉积稳定性与工艺一致性；
搬运平台优化——提高设备兼容性与节拍控制精度；
射频功率控制+智能调度算法——确保复杂工艺精度与一致性。
12英寸多腔多工位CVD
知识产权护航，构建可持续演进能力
皓宇电子自2021年起建立自主知识产权体系，目前已累计百余项专利布局，覆盖多工艺腔-多Station架构、加热系统、功率系统、传输机构、智能算法及核心零部件等多个关键技术领域。这些专利不仅形成了核心模块的技术护城河，更为整机的独立演进与横向拓展奠定了基础，使设备能够灵活适配更多先进制程和新材料应用。
工程落地前移，国产化竞争力凸显
皓宇电子的CVD设备在量产部署阶段展现出多项市场化优势：
紧凑设计——占地优化，适配晶圆厂厂房布局；
高核心部件国产化率——远超主流Fab标准，提升供应链安全性；
兼容多种材料工艺——适配逻辑、存储、功率器件等应用场景；
自研控制系统——提供温控精度、气路调度与功率管理的闭环优化；
成熟供应链体系——具备批量交付与快速响应能力；
降本增效方案支持——通过结构优化与核心部件自研，打造“低成本、高效率”的整机体系，帮助客户在降低采购成本的同时提升生产效率；
按需配置灵活选型—— 核心部件支持国产替代与进口灵活选择，满足不同客户多层次需求与策略部署。
8英寸多腔多工位CVD
作为国内首家完成“多腔多Station”CVD设备量产的企业，皓宇电子不仅填补了该技术路线的国产空白，更为国产半导体设备迈向“高端可用、广域适配”提供了可借鉴的创新样本。
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